從前面關于3D Tri-Gate工藝的介紹來看，這一創新技術給桌面處理器帶來了無“限”可能，實際上，Tri-Gate工藝還將引發現代電子產業的革新。
Intel將在以上五家晶圓廠采用22nm Tri-Gate制造工藝
3D Tri-Gate工藝為移動設備帶來更廣闊發展空間
晶體管是現代電子的基石，3D Tri-Gate工藝一舉改變了沿用了50多年的晶體管設計，它不僅延續了摩爾定律，還將為移動處理器芯片掃清體積和功耗上的障礙，從而在為移動計算設備提供媲美桌面處理器性能的同時，進一步降低設備功耗，這在電池技術發展緩慢的當前具有非凡的意義。
晶體管制造工藝發展
Intel計劃推出14nm制程的Atom處理器
Intel目前正在進入移動處理芯片市場，借助3D Tri-Gate工藝，Intel可以推出更低功耗的Atom處理器(關于Atom處理器發展歷史可參考文章：終究能否逆天！Intel Atom全面回顧)，從Intel Atom處理器路線圖上我們看到，Intel計劃于2014年推出14nm的Atom，3D Tri-Gate工藝則在2013年就登陸22nm的Atom了。在3D Tri-Gate新工藝幫助下，Intel將能推出性能更強、功耗更低的SoC芯片，一切順利的話，智能手機和平板機市場的格局將會全面改變。
