公司簡介:蘇大維格是國內領先的微納光學產品制造和技術服務商,主要從事微納光學產品的設計、開發與制造,關鍵設備的研制和相關技術研發服務。公司的微納光學產品包括公共安全防偽材料、鐳射包裝材料、新型顯示光學材料三類;設備主要是微納光學產品制造用光刻設備。
平臺技術,應用領域不斷擴展:微納光學制造的加工精度要達到亞微米級,屬于超細微加工極端制造,是先進制造業的重要組成部分。應用微納光學技術生產的具有微納結構的材料能夠產生各類特殊的光學效果,如光變色圖案、全息圖像、增亮擴散特性等,在公共安全防偽、包裝材料、新型顯示及照明等諸多領域具有多種應用。 技術推動,產品研發實力雄厚:公司是典型的技術推動型企業,從2001年成立至今,經過了創業孵化期、產品導入期、快速成長期。微納光學產品的技術含量高,行業具有明顯的研發主導特點,研發能力決定了業內企業呈現出“強者恒強”的競爭格局。公司擁有25項發明專利,4項實用新型專利,5項軟件著作權。承擔了“金屬基亞微米結構紫外激光刻蝕技術與系統”和“用于平板顯示的大幅面微納米壓印制造工藝與裝備”等2個國家“863計劃”項目。寬幅高品質數碼激光模壓全息原版(SVG-800)、大幅面激光定位圖像轉移材料SVG-tf01、公共安全證卡防偽材料獲得過國家重點新產品認定;數碼激光立體(全息)照排系統、寬幅定位激光轉移材料、寬幅激光高速直寫設備、公共安全防偽材料獲得江蘇省高新技術產品認定。
盈利預測:我們預測公司2012、2013和2014年攤薄后的每股收益分別為0.77元、0.88元和1.08元。按照2011年攤薄EPS0.66元,給予21-22xPE,建議詢價區間為13.8-14.5元。我們給予公司19-20xPE,預測2012公司攤薄計算的EPS為0.77元,公司的合理價值區間為14.6-15.4元。 風險提示:原材料價格波動風險,關聯交易金額較大風險,客戶集中風險
平臺技術,應用領域不斷擴展:微納光學制造的加工精度要達到亞微米級,屬于超細微加工極端制造,是先進制造業的重要組成部分。應用微納光學技術生產的具有微納結構的材料能夠產生各類特殊的光學效果,如光變色圖案、全息圖像、增亮擴散特性等,在公共安全防偽、包裝材料、新型顯示及照明等諸多領域具有多種應用。 技術推動,產品研發實力雄厚:公司是典型的技術推動型企業,從2001年成立至今,經過了創業孵化期、產品導入期、快速成長期。微納光學產品的技術含量高,行業具有明顯的研發主導特點,研發能力決定了業內企業呈現出“強者恒強”的競爭格局。公司擁有25項發明專利,4項實用新型專利,5項軟件著作權。承擔了“金屬基亞微米結構紫外激光刻蝕技術與系統”和“用于平板顯示的大幅面微納米壓印制造工藝與裝備”等2個國家“863計劃”項目。寬幅高品質數碼激光模壓全息原版(SVG-800)、大幅面激光定位圖像轉移材料SVG-tf01、公共安全證卡防偽材料獲得過國家重點新產品認定;數碼激光立體(全息)照排系統、寬幅定位激光轉移材料、寬幅激光高速直寫設備、公共安全防偽材料獲得江蘇省高新技術產品認定。
盈利預測:我們預測公司2012、2013和2014年攤薄后的每股收益分別為0.77元、0.88元和1.08元。按照2011年攤薄EPS0.66元,給予21-22xPE,建議詢價區間為13.8-14.5元。我們給予公司19-20xPE,預測2012公司攤薄計算的EPS為0.77元,公司的合理價值區間為14.6-15.4元。 風險提示:原材料價格波動風險,關聯交易金額較大風險,客戶集中風險
